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AMSTERDAM (dpa-AFX) - Die Aktien von ASML haben am Mittwoch nach Geschäftszahlen und gutem Start ihrem starken Lauf Tribut gezollt. Nachdem sie zunächst mit knapp über 1.307 Euro an ihr Rekordhoch von Ende Februar herangelaufen waren, verließ sie der Schwung. Zuletzt verloren sie im Zuge der Telefonkonferenz mit Analysten 4,3 Prozent auf gut 1.229 Euro und landeten auf dem vorletzten Platz im EuroStoxx 50 . In dem Leitindex der Eurozone zählen ASML mit einem Plus von gut einem Drittel seit Jahresanfang zu den besten Werten.

Analyst William Beavington von Jefferies sah in der Telefonschalte nichts Besonderes, was die ASML-Papiere hätte unter Druck setzen können. Möglicherweise habe der Markt aber auf mehr Optimismus vom Konzern vor allem mit Blick auf 2027 gehofft. Letztlich befinde man sich auch in einer zyklischen Abschwungphase. Der Experte rechnet zwar mit moderat steigenden Schätzungen für ASML, hält das Aufwärtspotenzial für die Aktien aber für begrenzt.

Der Chipindustrie-Ausrüster profitierte weiterhin vom KI-Boom und war mit überraschend viel Schwung in das neue Jahr gestartet. Analysten von Goldman Sachs sprachen von einem besser als erwartet ausgefallenen Quartalsbericht. Der erhöhte Ausblick für 2026 spiegele die anhaltend hohe Nachfrage wider.

Für Sandeep Deshpande von der US-Bank JPMorgan ist das Signal der Niederländer entscheidend, dass die Kundennachfrage kurz- und mittelfristig anziehe. Durch die Erhöhung der Jahresziele sieht er allerdings keine Impulse, da der Konsens bereits ambitionierter gewesen sei. Die operativen Gewinnerwartungen an das zweite Quartal dürften seiner Meinung nach sogar etwas sinken.

Ingo Wermann von der DZ Bank sprach von einem guten Jahresauftakt, betonte aber auch die Schwäche im China-Geschäft. Dieses leide unter Sanktionen und habe Umsatzeinbußen von 23 Prozent und einen Rückgang des Anteils an den Maschinenerlösen von 27 auf 19 Prozent hinnehmen müssen. Dieser negative Trend könnte sich sogar noch verschärfen, glaubt der Analyst und verwies auf einen in den USA eingebrachten Gesetzentwurf (US Match Act), der darauf abzielt, den Export von älteren Lithografiesystemen auf Basis von tiefem ultraviolettem Licht (DUV) nach China stärker zu beschränken. Die modernsten EUV-Anlagen, die mit extrem ultraviolettem Licht arbeiteten, unterlägen schon länger einem Ausfuhrverbot./ajx/he